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核孔膜的非常规蚀刻法
彭良强; 巨新; 王世成; 冼鼎昌; 李涛; 张宝亭
刊名核技术
2001
期号1页码:63-68
关键词核孔膜 蚀刻
其他题名Unconventional etch methods for nuclear track membranes
通讯作者彭良强
中文摘要不对称蚀刻法的分析表明 ,在灵敏度不变时可以得到小孔径核孔膜。实验显示 ,由于孔径不均匀现象的制约 ,核孔膜的孔径可减小到 1/ 2。温度梯度蚀刻法的分析表明 ,导通时间的减小与膜两面的温度差成正比 ,在实际条件下孔径减小到 1/ 5。模拟计算表明 ,采用该方法可得到柱状孔核孔膜 ,但蚀刻过程很难控制。
所属项目名称中国科学院九五”重点项目部分资助 ; 中国科学院核分析技术开放实验室资助
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/215431
专题院士_期刊论文
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GB/T 7714
彭良强,巨新,王世成,等. 核孔膜的非常规蚀刻法[J]. 核技术,2001(1):63-68.
APA 彭良强,巨新,王世成,冼鼎昌,李涛,&张宝亭.(2001).核孔膜的非常规蚀刻法.核技术(1),63-68.
MLA 彭良强,et al."核孔膜的非常规蚀刻法".核技术 .1(2001):63-68.
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