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同步辐射X射线深度光刻实验
伊福廷; 习复; 唐鄂生; 郑宏卫; 晋明; 冼鼎昌
刊名微细加工技术
1997
期号2页码:31-33
关键词LIGA技术 同步辐射 X射线光刻
其他题名THCENIQUE OF DEEP X-RAY LITHOGRAPHY WITH SYNHROTRON RADIATION
通讯作者伊福廷
中文摘要深度同步辐射光刻是LIGA技术的关键工艺环节。利用同步辐射X射线的高平行性、硬射线的高强度,可以光刻出非常深的胶结构,并且这一结构有着很好的尺寸精度和垂直精度,对加工出微型机械结构,具有重要作用。
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/215292
专题院士_期刊论文
中国科学院高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
伊福廷,习复,唐鄂生,等. 同步辐射X射线深度光刻实验[J]. 微细加工技术,1997(2):31-33.
APA 伊福廷,习复,唐鄂生,郑宏卫,晋明,&冼鼎昌.(1997).同步辐射X射线深度光刻实验.微细加工技术(2),31-33.
MLA 伊福廷,et al."同步辐射X射线深度光刻实验".微细加工技术 .2(1997):31-33.
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