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LIGA技术的掩模制造
其他题名MASK FABRICATON OF LIGA TECHNIQUE
伊福廷; 吴坚武; 晋明; 冼鼎昌; 刘金声; 王乃强
1995
发表期刊微细加工技术
期号2页码:33-37
通讯作者伊福廷
其他摘要LIGA技术是近几年才发展起来的一门新的技术,包括光刻、电铸和塑铸。由于要进行深度X光曝光,所用的同步辐射X光较硬,这一曝光条件相应就需要X光掩模吸收体有较大厚度和较高的加工精度,这样才能够阻挡住X光,同时保证较高的光刻精度。这种掩模的加工一般需要分二步完成,首先要加工出一块不太厚吸收体图形的X光掩模,然后利用同步辐射X光将这一掩模翻制成较大厚度的LIGA技术用掩模。本文是利用紫外光曝光与氩离子刻蚀相结合,制造出吸收体图形厚度2微米的X光掩模,然后用同步光将这一掩模翻制成LIGA技术用的掩模。
关键词同步辐射光刻,X光曝光掩模,微结构,微细加工
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/215219
专题院士
多学科研究中心
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GB/T 7714
伊福廷,吴坚武,晋明,等. LIGA技术的掩模制造[J]. 微细加工技术,1995(2):33-37.
APA 伊福廷,吴坚武,晋明,冼鼎昌,刘金声,&王乃强.(1995).LIGA技术的掩模制造.微细加工技术(2),33-37.
MLA 伊福廷,et al."LIGA技术的掩模制造".微细加工技术 .2(1995):33-37.
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